Technologia wytwarzania cienkich warstw o zadanej strukturze do zastosowań w elektronice i fotowoltaice | Centrum Transferu Technologii CITTRU Uniwersytetu Jagiellońskiego

BAZA WYNALAZKÓW

Uniwersytetu Jagiellońskiego

Technologia wytwarzania cienkich warstw o zadanej strukturze do zastosowań w elektronice i fotowoltaice

słowa kluczowe: ogniwa słoneczne III generacji, fotowoltaika, podręczna elektronika, ogniwa organiczne, nanopowłoki, półprzewodniki organiczne

numer oferty: 322, 381, 410, 412, 413

Przedmiotem oferty jest nowa, niskokosztowa i kompatybilna z technologią roll-to-roll metoda precyzyjnego wytwarzania struktur już na etapie tworzenia cienkich warstw.

Zastosowanie:
wytwarzanie cienkich warstw do produkcji wielkopowierzchniowych urządzeń elektroniki „plastikowej” i ogniw słonecznych III generacji

Przedmiotem wynalazku jest urządzenie i metoda tworzenia cienkich warstw za pomocą przesuwanego menisku. Technologia opiera się na wykorzystaniu układu wywołującego reakcje foto/elektrochemiczne w menisku przesuwanym po podłożu. Menisk jest tworzony przez roztwór dozowany pomiędzy walcem a podłożem. Dzięki zmianie prędkości przesuwu walca względem podłoża oraz kontroli położenia walca nad podłożem możliwe jest wytwarzanie kontrolowanych struktur na podłożu.

Układ wywołujący reakcję

Otrzymane struktury

Źródło prądu stałego
lub zmiennego

lokalna modyfikacja struktury warstwy polimerowej i nadanie jej pożądanego wzoru;
optymalizacja morfologii nanoszonej warstwy w celu zapewnienia jak najwyższej sprawności procesu elektroluminescencji;

wytwarzanie nanoporowatych warstw półprzewodzących tlenków metali.

Źródło światła

wytwarzania ścieżek i wzorów ze złota;
wytwarzanie ultracieńkich transparentnych warstw (TCF).

Zalety technologii:

- Możliwość wytwarzania struktur na podłożu elastycznym;

- Metoda kompatybilna z technologią roll-to-roll powszechnie stosowaną w produkcji wielkopowierzchniowych urządzeń elektroniki organicznej;

- Znaczące uproszczenie procesu w porównaniu do metod miękkiej litografii czy przygotowania dwuwarstwy polimerowej;

- Metoda pozwala na szybkie tworzenie warstwy o zadanej strukturze bez konieczności wcześniejszego modyfikowania powierzchni podłoża;

- Przedstawione rozwiązanie znacznie redukuje koszty materiału, przeprowadzenie reakcji w menisku nie wymaga zanurzenia całego podłoża w roztworze a jedynie aplikację niewielkiej ilości roztworu pomiędzy element prowadzący a podłoże.

Zakres zastosowania:

Otrzymywanie struktur z materiałów nieorganicznych i organicznych o kontrolowanym kształcie, grubości i/lub szerokości na podłożach przewodzących i nieprzewodzących (w tym elastycznych). Struktury te znajdują zastosowanie w elektronice plastikowej m.in. jako:

- polimerowe obwody elektroniczne;

- diody;

- tranzystory;

- ogniwa słoneczne;

- ultracienkie transparentne warstwy (TCF).

Oferowana technologia podlega polskiej i międzynarodowej ochronie patentowej. Dalsze prace nad jej rozwojem są prowadzone przez zespół naukowy z Zakładu Inżynierii Nowych Materiałów Wydziału Fizyki, Astronomii i Informatyki Stosowanej Uniwersytetu Jagiellońskiego. Obecnie Centrum Transferu Technologii CITTRU poszukuje podmiotów zainteresowanych komercyjnym wykorzystaniem opisanej technologii, poszukuje również partnerów do wspólnych projektów B+R obejmujących przedstawioną tematykę badawczą.

logotypy projektu Inkubator Innowacyjnosci+, Fundusze Europejskie, Unia Europejska, MNiSW