BAZA USŁUG BADAWCZYCH
Uniwersytetu Jagiellońskiego
Wytwarzanie grafenu na powierzchni węgliku krzemu
numer oferty: 102
tematyka badań:
Badania dotyczą przede wszystkim wysokotemperaturowego wzrostu wysokiej jakości, izotropowego grafenu na powierzchni węglika krzemu. Aparatura umożliwa badania wysokotemperaturowych procesów, wzrostu struktur opartych o krzem, czy wpływu uwodornienia powierzchni na ich właściwości.
Badania dotyczą przede wszystkim wysokotemperaturowego wzrostu wysokiej jakości, izotropowego grafenu na powierzchni węglika krzemu. Aparatura umożliwa badania wysokotemperaturowych procesów, wzrostu struktur opartych o krzem, czy wpływu uwodornienia powierzchni na ich właściwości.
aparatura:
Stanowisko do wytwarzania grafenu na powierzchni węgliku krzemu ze zintegrowanym układem umożliwiającym przeprowadzenie interkalacji wodorem. Składało się z systemu komór ultra-wysokiej próżni oraz komory introdukcyjnej połączonych ze sobą śluzami próżniowymi.
W komorze do syntezy grafenu znajduje się wielkopowierzchniowy element grzewczy typu „electron beam”, „cracker” wodoru oraz źródło atomów krzemu typu EBVV. Transfer próbek pomiędzy komorami będzie możliwy z wykorzystaniem manipulatora próżniowego.
Pompowanie układu odbywać się będzie dzięki systemowi pomp turbomolekularnych, jonowych, sublimacyjnych tytanowych oraz pomp próżni wstępnej.
Stanowisko zapewnia jednorodne ogrzewanie waferów o dużej powierzchni do temperatur powyżej 1500°C, umożliwi wysycanie dużych powierzchni atomowym wodorem, a także wzrost epitaksjalny krzemu i domieszkowanie innych materiałów krzemem.
Stanowisko do wytwarzania grafenu na powierzchni węgliku krzemu ze zintegrowanym układem umożliwiającym przeprowadzenie interkalacji wodorem. Składało się z systemu komór ultra-wysokiej próżni oraz komory introdukcyjnej połączonych ze sobą śluzami próżniowymi.
W komorze do syntezy grafenu znajduje się wielkopowierzchniowy element grzewczy typu „electron beam”, „cracker” wodoru oraz źródło atomów krzemu typu EBVV. Transfer próbek pomiędzy komorami będzie możliwy z wykorzystaniem manipulatora próżniowego.
Pompowanie układu odbywać się będzie dzięki systemowi pomp turbomolekularnych, jonowych, sublimacyjnych tytanowych oraz pomp próżni wstępnej.
Stanowisko zapewnia jednorodne ogrzewanie waferów o dużej powierzchni do temperatur powyżej 1500°C, umożliwi wysycanie dużych powierzchni atomowym wodorem, a także wzrost epitaksjalny krzemu i domieszkowanie innych materiałów krzemem.
usługi:
Wytwarzanie wysokiej jakości izotropowego grafenu na izolującym podłożu SiC (0001), interkalacja grafenu atomami wodoru lub krzemu, wzrost cienkich warstw krzemu, domieszkowanie materiałów krzemem, wysycanie powierzchni materiałów atomowym wodorem, obróbka wysokotemperaturowa materiałów w skali wafera 4” w warunkach ultra-wysokiej próżni.
Wytwarzanie wysokiej jakości izotropowego grafenu na izolującym podłożu SiC (0001), interkalacja grafenu atomami wodoru lub krzemu, wzrost cienkich warstw krzemu, domieszkowanie materiałów krzemem, wysycanie powierzchni materiałów atomowym wodorem, obróbka wysokotemperaturowa materiałów w skali wafera 4” w warunkach ultra-wysokiej próżni.
forma współpracy: usługi badawcze, prace zlecone cennikowe, konsorcjum, projekt, inne
rodzaj usług badawczych: pomiary, analiza, ekspertyza
informacja / kontakt broker Uniwersytetu Jagiellońskiego
imię i nazwisko: Katarzyna Małek-Ziętek
telefon: +48 519 307 961